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X光机的光电效应是如何产生的

    当X光机入射X的光子能量足够大时,内部材料可以是原子激发电子使光电子,其特征在于,产生所述激发原子与内外侧电子过渡的过程中,而在一定波长的X射线的辐射,入射光子的原子能被自由电子称为光子学,电子电离的即损失后释放被吸收完全消失,这个过程是光电效应(吸收)作用。

 当入射光的量子能量低时,相关联的入射光量子能量的光电子发射方向主要垂直于入射光量子的方向光电子的方向上;  量子能量随着入射光,入射光电子量子的发射方向趋于逐渐方向。

 X光机光电吸收有三个特点:入射的光子的能量是通过在碰撞的所有原子吸收;  自由电子和光子光电效应不能被生成的;  光电效应是伴随着次级辐射的产生。

 当如果击中原子K层电子产生的光电效应,L至K壳层电子层

 过渡,这是不释放到光量子的基于K-X射线形式之间的能量差,而是由相邻电子吸收时,电子被激发原子核成为自由电子逸出俄歇电子,被称为俄歇效应的现象。

X光机

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